دستگاه پوشش Sputter

دستگاه پوشش Sputter از فناوری هسته بالغ موجود شرکت ما استفاده می کند ، کل دستگاه ساختار هشت وجهی را اتخاذ می کند و اندازه حفره داخلی را می توان با توجه به محصولات واقعی مشتریان سفارشی کرد. مجهز به: تمیز کردن پرتو یونی با انرژی بالا + منبع کندوپاش مگنترون.

express سیستم فیلتراسیون مغناطیسی با راندمان بالا-می تواند به طور موثری چگالی پوشش را بهبود بخشد، سختی پوشش و مقاومت در برابر سایش را به دست آورد.

express منبع یون شکاف گسترده طراحی شده می تواند هم تمیز کردن پلاسما و هم رسوب پوشش را انجام دهد.

》Multi-arc source unique core design, stability is more than the market existing equipment, and a single maintenance time is shortened to 20 minutes; The arc source can work continuously until the target is consumed, usually >30h;

بیان اندازه رابط جهانی، قابلیت تعویض قوی، بهینه سازی و ارتقا آسان.

Express Friendly man-واسط ماشین، ضبط زمان واقعی-داده های فرآیند، منجر به کنترل کیفیت، تجزیه و تحلیل دشوار، توسعه فرآیندهای جدید.

فرمول فرآیند ماژولار express، تنظیم انعطاف پذیر زیر-فرمول و فرمول کل، فرمول فرعی-به راحتی اضافه/حذف می شود، با یک{2}}کلیک عملیات می توان فرمول فرآیند چند لایه را تکمیل کرد.

شرکت》ChunYuan یک راه حل کامل برای دستگاه پوشش اسپاتر، از جمله فرمول پوشش پایدار و بالغ ارائه می دهد و تجهیزات را می توان پس از تحویل به تولید رساند.