بررسی اجمالی محصول
این تجهیزات لایه نازک تبخیر پرتو الکترونی برای رسوب بخار فیزیکی با دقت بالا (PVD){{0} طراحی شده است. با استفاده از یک پرتو الکترونی متمرکز-برای بمباران مواد منبع، این سیستم به نرخ تبخیر بالایی برای فلزات، اکسیدها و مواد دی الکتریک با نقطه ذوب بالا-و{4} دست مییابد.
این سیستم که بر اساس معماری خلاء مدولار ساخته شده است، دارای تفنگ های الکترونی چند{0} جیبی، وسایل زیرلایه قابل تنظیم و نظارت برجای پیشرفته-می باشد. این به آزمایشگاههای تحقیق و توسعه و خطوط تولید{3} با توان بالا خدمات میدهد که به کنترل دقیق روی استوکیومتری فیلم، چسبندگی و عملکرد نوری نیاز دارند.
-
![تجهیزات تبخیر پرتو الکترونی با خلاء بالا]()
تجهیزات تبخیر پرتو الکترونی با خلاء بالاEBE-سیستم تبخیر پرتو الکترونی با خلاء بالا، لایههای نازک با خلوص بالا را برای کاربردهای نوری، نیمهرسانا، و متالورژی رسوب میکند. با هدایت یک پرتو الکترونی متمرکز مغناطیسی به مواد منبع در داخل یک...مشاهده بیشتر -
![سیستم رسوب لایه نازک پرتو الکترونی]()
سیستم رسوب لایه نازک پرتو الکترونیسیستم رسوب لایه نازک پرتو الکترونی، پردازش PVD جهت-با خلوص بالا را برای تحقیقات پیشرفته و تولید صنعتی ارائه میکند. این سیستم با استفاده از یک پرتو الکترونی متمرکز و هدایت مغناطیسی که بر روی مواد...مشاهده بیشتر -
![تجهیزات تبخیر خلاء پرتو الکترونی]()
تجهیزات تبخیر خلاء پرتو الکترونیاین سیستم تبخیر خلاء پرتو الکترونی رسوب فیزیکی بخار (PVD) فلزات، اکسیدها و دی الکتریکها با نقطه ذوب بالا- را اجرا میکند. با هدایت یک پرتو الکترونی متمرکز به داخل یک اجاق مسی-سرد شده با آب، سیستم...مشاهده بیشتر -
![تجهیزات رسوب لایه نازک پرتو الکترونی]()
تجهیزات رسوب لایه نازک پرتو الکترونیاین سیستم رسوبدهی پرتو الکترونی صنعتی از تفنگهای الکترونی متمرکز مغناطیسی (۳ کیلووات تا ۱۵ کیلووات) برای هدایت شارهای انرژی با چگالی بالا به درون اجاقهای مسی خنکشده با آب استفاده میکند. با...مشاهده بیشتر -
![سیستم لایه نازک تبخیر پرتو الکترونی]()
سیستم لایه نازک تبخیر پرتو الکترونیEBE-سری سیستم تبخیر پرتو الکترونی برای رسوب فیزیکی بخار (PVD) فلزات، دی الکتریک ها و مواد نوری با نقطه ذوب بالا-و مواد نوری طراحی شده است. با استفاده از یک پرتو الکترونی متمرکز با انحراف مغناطیسی...مشاهده بیشتر -
![تجهیزات لایه نازک تبخیر پرتو الکترونی]()
تجهیزات لایه نازک تبخیر پرتو الکترونیسری EBE-V600 یک پلت فرم-رسوب فیزیکی بخار فیزیکی (PVD) در مقیاس صنعتی است که برای پوشش دقیق نازک- اجزای نوری، دستگاه های نیمه هادی و مواد پیشرفته طراحی شده است. با هدایت یک پرتو الکترونی با انرژی...مشاهده بیشتر
مشخصات فنی
|
پارامتر |
محدوده مشخصات |
یادداشت ها / پیکربندی استاندارد |
|
فشار پایه نهایی |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
از طریق گروههای پمپاژ مولکولی برودتی یا توربو{0}}به دست آمد |
|
ابعاد اتاقک |
سفارشی (قطر داخلی 500 میلی متر تا 1200 میلی متر) |
فولاد ضد زنگ 304 لیتر / 316 لیتر، الکترو- پولیش شده |
|
E-ردهبندی قدرت تفنگ |
6 کیلووات تا 15 کیلووات (مولتی-مولد جارو جیبی) |
انحراف پرتو قابل برنامه ریزی و نمایه سازی چند{0} بوته |
|
نرخ رسوب |
0.1 نانومتر بر ثانیه تا 10 نانومتر بر ثانیه |
کنترل حلقه واقعی-زمان بسته- از طریق نمایشگر کریستال کوارتز |
|
یکنواختی ضخامت فیلم |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
فیکسچر بستر سیاره ای یا گنبدی با چرخش سرعت متغیر |
|
دمای بستر |
محیط تا 800 درجه |
گرمایش تابشی یکپارچه با بازخورد حرارتی PID |
ویژگی های کلیدی تجهیزات
تفنگ الکترونی با ثبات بالا-
دارای انحراف مغناطیسی و فوکوس چند{0}نقطه ای برای جلوگیری از گرمای بیش از حد موضعی مواد منبع و از بین بردن تف در هنگام تبخیر واکنشی.
طراحی بوته مدولار:
مجهز به 4 تا 6-کوره قابل نمایش جیبی، که امکان رسوب گذاری چند لایه را بدون شکستن خلاء فراهم می کند.
اینترلاک خلاء پیشرفته:
دریچههای پنوماتیکی کنترلشده PLC، توالییابی خودکار زبری/بالا-خلاء، و اینترلاکها در برابر خرابی آب خنککننده و ناهنجاریهای برق محافظت میکنند.
اتاقک آلودگی کم-:
محافظ داخلی از فولاد ضد زنگ الکترو-صیقل خورده با آسترهای قابل جابجایی برای کاهش سریع ذرات و تعمیر و نگهداری استفاده می کند.
مواد و بسترهای فیلم
مواد تبخیر سازگار
فلزات: طلا، نقره، آل، Ti، کروم، نیکل، پلاتین، مس، مو، W
دی الکتریک ها و اکسیدها: SiO2، TiO2، Al2O3، Ta2O5، HfO2، ITO
انواع بستر
ویفرهای سیلیکونی (2 اینچ تا 12 اینچ)
زیرلایه های شیشه نوری، سیلیس ذوب شده و کوارتز
فیلمهای پلیمری انعطافپذیر (پلیآمید، PET از طریق رول-به-ماژولهای رول)
بسترهای سرامیکی (Al2O3، AlN)
برنامه های کاربردی
پوشش های نوری:
پوششهای ضد انعکاسی (AR)، فیلترهای باند باریک-و آینههای بازتابی{{2}بالا برای سیستمهای لیزر و فوتونیک.
دستگاه های نیمه هادی:
تشکیل تماس اهمی، متالیزاسیون دروازه، و{0}}برداشتن پردازش برای میکروالکترونیک.
اپتوالکترونیک:
لایه های اکسید رسانای شفاف (TCO) و لایه های نازک برای نمایشگرهای OLED و سلول های فتوولتائیک.
تحقیق و توسعه پیشرفته:
لایههای مغناطیسی نازک{0}}لایههای اکتشافی، لایههای ابررسانا و ساختارهای ناهمسان چندلایه-.
سفارشی سازی و پیکربندی سیستم
هر سیستم فیلم نازک- برای مطابقت با دستور العمل های فرآیند خاص و طرح بندی تسهیلات پیکربندی شده است. سازگاری های مهندسی موجود عبارتند از:
انتخاب پشته پمپاژ:
پیکربندیهای انتشار-پمپهای مولکولی توربو (TMP)، کرایوپمپها یا روغن{1}} متناسب با نیازهای خلاء و توان عملیاتی پایه.
بارگیری{0}یکپارچه سازی قفل:
بارگیری دستی-قفل یا سیستمهای خوشهای چند محفظه{{1} خودکار برای حفظ یکپارچگی خلاء فوق-و افزایش توان ویفر.
در-مترولوژی درجا:
پورتهای یکپارچهسازی برای بیضیسنجهای طیفسنجی، مانیتورهای نوری، یا آنالایزرهای گاز باقیمانده (RGA).
نرم افزار کنترل:
رابط PLC/HMI اختصاصی با ذخیرهسازی دستور غذا، ثبت دادهها و پروتکلهای ارتباطی SECS/GEM برای ادغام کارخانه هوشمند.
تولید و کنترل کیفیت
ساخت کشتی:
همه محفظههای خلاء تحت آزمایش نشت طیفسنج جرمی هلیوم با آستانه رد کمتر از 1 × 10^-9 Pa·m³/s قرار میگیرند.
یکپارچگی جوش:
جوشکاری TIG تحت پوشش محافظ گاز بی اثر و به دنبال آن غیرفعال سازی سطح داخلی و پرداخت مکانیکی برای کاهش گازهای خروجی انجام می شود.
تست پذیرش کارخانه (FAT):
72-ساعت خشک مداوم-آزمایش اندازهگیری منحنیهای پمپاژ، دقت جابجایی تفنگ الکترونیکی، زمانهای پاسخ درون قفل و پایداری حرارتی قبل از بستهبندی.
انطباق و استانداردها:
تولید شده تحت یک سیستم مدیریت کیفیت دارای گواهی ISO 9001، با سیستم های مهندسی شده برای مطابقت با دستورالعمل های CE و دستورالعمل های ایمنی و ارگونومیک SEMI (S2/S8).
سوالات متداول
ما بهخوبی-بهعنوان یکی از تولیدکنندگان و تامینکنندگان تجهیزات لایه نازک تبخیر پرتو الکترونی در چین شناخته شدهایم. اگر قصد خرید تجهیزات فیلم نازک تبخیر پرتو الکترونی سفارشی ساخت چین را دارید، به لیست قیمت از کارخانه ما خوش آمدید. برای مشاوره قیمت با ما تماس بگیرید.
