بررسی اجمالی محصول

 

تجهیزات آبکاری یونی چند قوس صنعتی که برای اعمال پوشش‌های سخت، لایه‌های کاربردی و پرداخت‌های تزئینی PVD بر روی اجزای دقیق طراحی شده است. با استفاده از تخلیه قوس خلاء با ولتاژ بالا-جریان پایین-، سیستم به طور مستقیم مواد هدف جامد (Ti، Cr، Al، Zr) را تبخیر می‌کند. هنگامی که با گازهای راکتیو (N2، O2، C2H2) ترکیب می شود، نیتریدها، کاربیدها و اکسیدهای متراکم فلزات واسطه را مستقیماً روی بسترهای فلزی سنتز می کند.


این راه حل PVD کلید در دست ساخته شده بر اساس معماری محفظه خلاء مدولار، مقیاس های مختلف تولید را در خود جای می دهد-از پردازش دسته ای تحقیق و توسعه تا تولید درون خطی خودکار و با توان بالا{{1}. این سیستم برای استفاده از هدف بالا و هزینه کل مالکیت پایین (TCO) در محیط های صنعتی مداوم 24/7 بهینه شده است.

 
  • چند{0}}تجهیزات رسوب دهی خلاء قوس
    این سیستم رسوب‌گذاری خلاء چند قوسی از فناوری آبکاری یونی قوس کاتدی برای رسوب دادن پوشش‌های سخت متراکم-با چسبندگی بالا بر روی زیرلایه‌های فلزی و غیرفلزی استفاده می‌کند. با ضربه زدن به یک قوس...
    مشاهده بیشتر
  • سیستم رسوب یون چند قوس
    The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >یونیزاسیون 80 درصدی مواد کاتد...
    مشاهده بیشتر
  • تجهیزات لایه نازک PVD Multi-
    سیستم PVD چند قوس صنعتی از رسوب بخار فیزیکی قوس کاتدی با یونیزاسیون بالا برای رسوب پوشش‌های سخت متراکم و استوکیومتری (مانند TiN، TiAlN، CrN، و DLC) بر روی بسترهای فلزی استفاده می‌کند. این سیستم که...
    مشاهده بیشتر
  • تجهیزات رسوب یون چند قوس
    سیستم رسوب دهی یون چند قوس صنعتی از طریق تبخیر قوس کاتدی با ولتاژ بالا-و{1}}چسبندگی بالا، لایه‌های نازک متراکم-را ایجاد می‌کند. مواد جامد هدف (کاتدها) در یک اتمسفر گاز واکنش پذیر (مانند N2، O2 یا...
    مشاهده بیشتر
  • سیستم لایه نازک چند-قوس یونی
    سیستم لایه نازک چند قوس یونی چند{0}}از تبخیر قوس کاتدی استفاده می‌کند تا پوشش‌های سرامیکی و فلزی متراکم- با چسبندگی بالا بر روی زیرلایه‌های فلزی و آلیاژی رسوب کند. با تبخیر مواد کاتدی جامد در محیط...
    مشاهده بیشتر
  • تجهیزات لایه نازک چند قوس یونی
    این سیستم چند{0}}آبکاری یونی قوس الکتریکی از تبخیر قوس کاتدی برای رسوب دادن پوشش‌های سخت متراکم،- با چسبندگی بالا و لایه‌های نازک کاربردی استفاده می‌کند. با ضربه زدن به یک قوس-جریان بالا و ولتاژ...
    مشاهده بیشتر
 
مشخصات فنی

 

پارامتر

محدوده مشخصات

واحد / توجه

ابعاد اتاقک

Ф600 × 600 تا Ф1500 × 1800

میلی متر (پیکربندی های عمودی یا افقی سفارشی)

فشار خلاء نهایی

<= 5.0 x 10^-4

Pa (پمپ خشک + توربو{1}}مجموعه انتشار مولکولی / روغن)

منابع قوس کاتدی

4 تا 16 واحد

منابع قوس هدایت شده یا فیلتر شده الکترومغناطیسی (FCA)

قدرت سوگیری بستر

0 تا -1000

V (قابلیت‌های بایاس DC/MF پالس پیشرفته)

دمای گرمایش

دمای اتاق تا 600

C (هیترهای تابشی با کنترل PID)

یکنواختی رسوب گذاری

<= +/- 5%

از طریق XRF در سراسر منطقه کار موثر اندازه گیری می شود

سیستم کنترل

PLC + کامپیوتر صنعتی

اجرای خودکار دستور العمل، ثبت داده های SCADA

ایمنی و انطباق

CE، ISO 9001

محفظه‌های الکتریکی مطابق با UL{0}}در صورت درخواست در دسترس هستند

 

 

فرآیند رسوب یون چند قوس

توالی رسوب بخار فیزیکی بر روی یک گردش کار خودکار با حلقه بسته و دقیق عمل می کند تا از تکرارپذیری دسته ای-به-دسته ای اطمینان حاصل شود:


تخلیه و تخلیه گاز:

محفظه خلاء تا فشار پایه به پایین پمپ می شود<= 5.0 x 10^-3 Pa, while substrate temperatures are ramped to eliminate surface volatiles.


اچ پلاسما (بمباران):

گاز آرگون معرفی شده است. یک سوگیری منفی زیاد روی نگهدارنده بستر اعمال می‌شود و یون‌های Ar را تولید می‌کند که سطح را بمباران می‌کنند تا اکسیدهای بومی و میکرو{1}}آلاینده‌ها را از بین ببرند.

تبخیر قوس و یونیزاسیون:

جریان قوس DC به کاتد فلزی جامد برخورد می کند. نقطه کاتد محلی به چگالی انرژی فوق العاده می رسد و فوراً ماده مورد نظر را به یک جریان پلاسمایی با چگالی بالا تبخیر می کند (نرخ یونیزاسیون > 80٪).

رسوب واکنشی:

گازهای راکتیو با فشارهای جزئی دقیق کنترل شده از طریق کنترل کننده های جریان جرمی (MFCs) به شار پلاسما تزریق می شوند و لایه های ترکیبی استوکیومتری را روی بسترهای در حال چرخش تشکیل می دهند.

سرمایش و تهویه:

خنک‌سازی کنترل‌شده تحت حفاظت گاز بی‌اثر قبل از تهویه محفظه انجام می‌شود و از اکسید شدن قطعات تازه روکش‌شده جلوگیری می‌کند.

 

مواد فیلم و خواص پوشش

این سیستم از آرایش‌های چند{0} کاتدی فلزی پشتیبانی می‌کند و معماری فیلم‌های تک لایه، چندلایه، نانو-کامپوزیت و گرادیان را فعال می‌کند:

Multi-Arc Vacuum Deposition Equipment

TiN (نیترید تیتانیوم):

روکش طلایی استاندارد؛ سختی 2200-2400 HV; ضریب اصطکاک 0.4. استفاده اولیه: ابزارهای برش عمومی و قطعات سایش مکانیکی.

Multi-Arc Ion Thin Film System

TiAlN (نیترید آلومینیوم تیتانیوم):

مقاومت در برابر اکسیداسیون در دمای بالا تا 850 درجه سانتیگراد؛ سختی 3000-3300 HV. کاربرد اصلی: درج‌های ماشین‌کاری خشک با سرعت بالا و سوپاپ‌های موتور.

Multi-Arc Ion Thin Film System

CrN / CrAlN (نیترید کروم):

مقاومت در برابر خوردگی عالی و استرس داخلی کم؛ خاصیت ضد تشنجی در برابر فلزات غیرآهنی{{1}. استفاده اولیه: قالب های شکل دهی، رینگ های پیستون و اجزای ماشین آلات نساجی.

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

ZrN / TiCN:

زبری سطح کم (Ra<= 0.05 um); decorative stability and biocompatibility. Primary use: medical surgical instruments and premium sanitary hardware.

 

 

برنامه های کاربردی

 

ابزارهای برش دقیق:

آسیاب های انتهایی، مته ها، اجاق ها، و درج های قابل نمایه سازی که به عمر ابزار طولانی تر تحت بارهای حرارتی بالا نیاز دارند.

01

پیشرانه خودرو:

پین‌های پیستون، شیرآلات، اجزای تزریق سوخت و سطوح دنده‌ای که نیاز به کاهش اصطکاک مرزی و مقاومت در برابر خراش دارند.

02

قالب ها و قالب ها:

قالب‌های تزریق پلاستیک، قالب‌های مهر زنی، و قالب‌های ریخته‌گری{0}}که به مقاومت در برابر سایش چسب و خستگی حرارتی نیاز دارند.

03

اجزای هوافضا:

تیغه‌های توربین و بست‌های تیتانیوم در محیط‌های خورنده تهاجمی و{0}}با استرس بالا کار می‌کنند.

04

 

سفارشی سازی و پیکربندی سیستم
 

اقلام استاندارد کاتالوگ به ندرت با چیدمان های اختصاصی کارخانه کاملاً مطابقت دارند. پیکربندی تجهیزات بر اساس هندسه اجزای خاص، اهداف زمان چرخه و محدودیت‌های تسهیلات تنظیم می‌شوند:

هندسه محفظه ای:

محفظه های فولادی ضد زنگ هشت ضلعی یا استوانه ای (SUS304/SUS316L) دارای ژاکت های خنک کننده دوجداره-آب-.

چیدمان منبع:

Side-mounted or bottom-driven arc sources with magnetic steering coils to minimize macroparticle generation and ensure high cathode utilization (>60%).

تثبیت بستر:

چرخش سیاره‌ای (3-محور) یا مکانیسم‌های تک چرخشی که توسط جریان‌های سیال مغناطیسی هدایت می‌شوند تا پوشش یکنواخت پوشش را در هندسه‌های سه بعدی پیچیده تضمین کنند.

گزینه های پشته پمپاژ:

دمنده‌های ریشه، پمپ‌های پره‌ای دوار، پمپ‌های برودتی، یا پمپ‌های توربومولکولی پیکربندی شده‌اند تا زمان‌های چرخه پایین پمپ را برآورده کنند.

 

پروتکل های کنترل کیفیت و تست

هر ماشینی قبل از ارسال تحت آزمایش پذیرش کارخانه (FAT) سختگیرانه قرار می گیرد که برای بررسی خریدار مستند شده است:

01

تست یکپارچگی خلاء:

تشخیص نشت هلیوم با استفاده از طیف سنجی جرمی (نرخ نشت<= 1 x 10^-10 Pa*m3/s).

02

ایمنی الکتریکی و سوختگی-در:

72 ساعت کار خشک مداوم منابع تغذیه، اینترلاک خنک کننده آب و منطق اتوماسیون PLC.

03

تأیید پوشش (در-آزمایشگاه داخلی):

نمونه‌ها از طریق تست Calo- (ضخامت لایه)، فرورفتگی راکول (استحکام چسبندگی) و نانو تورفتگی (سختی) آزمایش شدند.

Multi-Arc PVD Thin Film Equipment

 

نصب، راه اندازی و پشتیبانی فنی

دستورالعمل های آماده سازی سایت:

نقشه‌های طرح‌بندی ابزار دقیق برای جریان/فشار آب خنک‌کننده، هوای فشرده، تهویه خروجی و الزامات شینه‌های الکتریکی ارائه شده است.

SAT و راه اندازی:

نصب-در سایت (تست پذیرش سایت)، کالیبراسیون خلاء، و تحویل دستور اولیه توسط مهندسان ارشد فرآیند PVD انجام شده است.

آموزش فرآیندی:

آموزش{0}}در مورد برنامه‌های تعویض کاتد، تعمیر و نگهداری پیشگیرانه خلاء، عیب‌یابی، و بهینه‌سازی دستور العمل اولیه.

پشتیبانی قطعات یدکی:

اجزای سایش حیاتی (کاتدها، سپرها، عایق‌ها و مهر و موم‌ها) برای ارسال جهانی ظرف 48 ساعت ذخیره می‌شوند.

 

 

 

سوالات متداول

 

 

س: چگونه ذرات درشت (قطرات) ذاتی در آبکاری چند قوس یونی را مهار می کنید؟

پاسخ: ما از میدان های فرمان مغناطیسی قابل تنظیم همراه با شکل موج های جریان قوس بهینه برای تثبیت نقاط کاتد و کاهش انتشار قطرات استفاده می کنیم. برای کاربردهای نوری یا پزشکی فوق العاده صاف، سیستم را می توان با منابع قوس کاتدی فیلتر شده (FCA) ادغام کرد.

س: زمان معمول برای پیکربندی اتاقک سفارشی چقدر است؟

A: تنظیمات استاندارد ظرف 16 تا 20 هفته ارسال می شود. ابعاد محفظه کاملاً سفارشی، رابط های بارگیری رباتیک خودکار، یا سیستم های پمپاژ برودتی تخصصی به 24 تا 30 هفته از تایید نقشه P&ID نیاز دارند.

س: آیا سیستم می تواند دستور العمل های پوشش دهی متعدد را برای خانواده های مختلف ذخیره کند؟

ج: بله. سیستم کنترل صنعتی PLC تا 100 دستور العمل فرآیند جداگانه را ذخیره می کند. این امکان اجرای خودکار،{3}}یک لمسی روی کنترل‌کننده‌های جریان جرم گاز (MFC)، افزایش ولتاژ بایاس، توالی جریان قوس الکتریکی، و زمان‌های گام خاص را فراهم می‌کند.

ما به‌خوبی-به‌عنوان یکی از تولیدکنندگان و تامین‌کنندگان پیشرو تجهیزات لایه نازک یونی چند قوس در چین شناخته شده‌ایم. اگر قصد خرید تجهیزات فیلم نازک چند{3}}قوسی سفارشی ساخت چین را دارید، به لیست قیمت از کارخانه ما خوش آمدید. برای مشاوره قیمت با ما تماس بگیرید.

Optiese dun filmtoerusting, تجهیزات فیلم نازک برای برنامه های نیمه هادی, Dun film PVD -stelsel
ارسال درخواست
با ما تماس بگیریداگر سوالی دارید

شما می توانید از طریق تلفن، ایمیل یا فرم آنلاین زیر با ما تماس بگیرید. متخصص ما به زودی با شما تماس خواهد گرفت.

اکنون تماس بگیرید!