تجهیزات لایه نازک PVD Multi-

تجهیزات لایه نازک PVD Multi-

جزئیات
سیستم PVD چند قوس صنعتی از رسوب بخار فیزیکی قوس کاتدی با یونیزاسیون بالا برای رسوب پوشش‌های سخت متراکم و استوکیومتری (مانند TiN، TiAlN، CrN، و DLC) بر روی بسترهای فلزی استفاده می‌کند. این سیستم که برای{3}}مراکز پوشش قراردادی با حجم بالا و خطوط تولید محصور طراحی شده است، مقاومت در برابر سایش، کاهش اصطکاک و پایداری حرارتی را برای اجزای دقیق بهینه می‌کند.
طبقه بندی محصول
تجهیزات لایه نازک چند قوس یونی
 
ارسال درخواست
شرح
پارامترهای فنی

سیستم PVD چند قوس صنعتی از رسوب بخار فیزیکی قوس کاتدی با یونیزاسیون بالا برای رسوب پوشش‌های سخت متراکم و استوکیومتری (مانند TiN، TiAlN، CrN، و DLC) بر روی بسترهای فلزی استفاده می‌کند. این سیستم که برای{3}}مراکز پوشش قراردادی با حجم بالا و خطوط تولید محصور طراحی شده است، مقاومت در برابر سایش، کاهش اصطکاک و پایداری حرارتی را برای اجزای دقیق بهینه می‌کند.

 

مشخصات فنی

 

پارامتر

محدوده مشخصات

ابعاد اتاقک

پیکربندی‌های سفارشی (Dia. 800 x 1000 mm تا Dia. 1500 x 1500 mm، فولاد ضد زنگ 304/316L)

فشار خلاء نهایی

<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo Molecular & Roots Pump configuration)

فشار خلاء کاری

0.1 تا 3.0 Pa (کنترل شده از طریق MFCهای دیجیتال)

منبع تغذیه کاتدی

DC Arc: 100 A - 200 A; بایاس پالسی: 0 تا -1000 ولت قابل تنظیم

چرخش فیکسچر بستر

چرخش سیاره ای، 0 - 10 دور در دقیقه، ظرفیت بار تا 500 کیلوگرم

سیستم گرمایش

بخاری های تابشی فولاد ضد زنگ، حداکثر دما 600 درجه سانتیگراد (+/- 5 درجه سانتیگراد یکنواختی)

کنترل فرآیند

PLC + رایانه صنعتی، اجرای خودکار دستور العمل،- ثبت اطلاعات در زمان واقعی

الزامات ابزار

آب خنک کننده: 0.2 - 0.3 مگاپاسکال، 25 درجه سانتیگراد؛ برق: 380 ولت، 3 فاز، 50/60 هرتز

 

ویژگی های کلیدی


منابع قوس کاتدی فیلتر شده:فیلتر مغناطیسی تولید درشت ذرات (قطرات) را به حداقل می رساند و سطح صاف تری را به همراه دارد (Ra < 0.1 um).


{0}پیکربندی مگنترون نامتعادل میدان بسته: Enhances substrate-zone plasma density, achieving film adhesion scratch-test critical load Lc >= 80 N.


تنظیم جریان گاز دوگانه{{0}:کنترل بازخورد حلقه بسته -با استفاده از مانومترهای خازنی و{1}MFCهای با دقت بالا برای گازهای راکتیو (N2، C2H2، O2).


منابع رسوب مدولار:طرح‌بندی‌های مسطح و استوانه‌ای قابل تعویض، سوئیچینگ سریع هدف را برای معماری‌های چندلایه- ممکن می‌سازد.

 

پیکربندی سیستم خلاء


پمپ زبر:پره چرخشی یا پشتی مکانیکی پیچ خشک برای از بین بردن جریان برگشتی روغن.


پمپ خلاء بالا: Magnetic levitation turbo molecular pump (>= 3200 L/s) با یک دمنده ریشه جفت شده است.


آب بندی و شیرآلات:شیرهای دروازه پنوماتیک، فلنجهای ISO{0}F/CF با واشرهای ویتون/فلزی؛ نرخ نشت طیف سنج جرمی هلیوم < 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.


مانیتورینگ فشار:یونیزاسیون سنج پیرانی و کاتد سرد.

 

سازگاری مواد تبخیر و بستر


اهداف استاندارد کاتد:Ti, Al, Cr, TiAl, Zr, Cu, Graphite (purity >= 99.95%).


مواد بستر:کاربیدهای سیمانی (WC{0}}Co)، HSS، فولادهای آلیاژی (SKD11، 40Cr)، آلیاژهای تیتانیوم (Ti-6Al-4V) و فولاد ضد زنگ (304، 316L).


قبل از-درمان:برای از بین بردن اکسیدهای سطحی قبل از رسوب، به چربی‌زدایی اولتراسونیک و اچ کردن یون پلاسما آرگون درجا (بمباران Ar+) نیاز دارد.

 

برنامه های کاربردی


ابزار برش و شکل دهی:آسیاب‌های انتهایی، برش‌های هوبینگ، و درج‌هایی که با TiAlN/TiN پوشانده شده‌اند تا عمر ابزار را تا 200% - 400% در ماشین‌کاری خشک افزایش دهند.


اجزای خودرو:رینگ‌های پیستون، پین‌های انژکتور و شیرهای با پوشش CrN/DLC برای کاهش اصطکاک و خراش‌های مرزی پوشیده شده‌اند.


تجهیزات پزشکی:پیچ های ارتوپدی، تیغه های جراحی و اباتمنت های دندانی با استفاده از TiN/ZrN برای زیست سازگاری و مقاومت در برابر خوردگی.


سخت افزار صنعتی:Mold cavities and precision gears requiring high surface hardness (>3000 HV).

 

سفارشی سازی


اندازه اتاقک:قطر داخلی و پروفیل‌های ارتفاع متناسب با حجم‌های دسته‌ای خاص یا قطعات کار بزرگ‌تر.


طرح کاتد:4 تا 12 شکاف منبع قوس قابل تنظیم به طور متقارن برای اطمینان از توزیع ضخامت در +/- 8%.


ادغام سوگیری:ادغام ترکیبی ترکیبی-پالسی مگنترون پالسی پرقدرت (HPPMS) در کنار منابع قوس کاتدی استاندارد.


اتوماسیون:ادغام با بازوهای بارگیری خودکار و سیستم های اجرایی ساخت SCADA.

 

کنترل کیفیت


بازرسی مواد:Spectrographic analysis verifying raw target metallic purity (>= 99.95%).


تست سازه:بررسی ابعادی CMM محفظه ها و آزمایش فشار هیدرواستاتیک کانال های خنک کننده.


تست پذیرش کارخانه (FAT):تست اجرای خشک مداوم 72-ساعته- که چرخش مکانیکی، منحنی‌های پمپاژ پایین و پایداری حرارتی را پوشش می‌دهد.


تایید پوشش:کوپن‌های آزمایشی از طریق پین-روی-آزمایش سایش دیسک، تورفتگی راکول و تجزیه و تحلیل ضخامت مقطع{2}}FESEM ارزیابی می‌شوند.

 

نصب و پشتیبانی فنی


آماده سازی سایت:مستندات مهندسی دقیق برای محدودیت های بار کف، نرخ جریان آب خنک کننده، و الزامات شینه الکتریکی.


راه اندازی:نصب-در سایت، کالیبراسیون خلاء، و تحویل دستور فرآیند اولیه توسط مهندسان میدانی.


آموزش اپراتور:برنامه های ساختاریافته ای که تعمیر و نگهداری معمول، جایگزینی هدف، شکار نشت و عیب یابی اولیه PLC را پوشش می دهند.


پشتیبانی چرخه حیات:ادغام رابط تشخیصی از راه دور برای ثبت پارامترهای زمان واقعی-و جداسازی سریع خطا.

 

سوالات متداول

 

س: نرخ استفاده از هدف کاتد معمولی چقدر است؟

پاسخ: کاتدهای قوس مسطح معمولاً بسته به مشخصات فرسایش مغناطیسی 45٪ تا 60٪ استفاده می کنند.

س: سیستم چگونه ذرات بزرگ را کاهش می دهد؟

پاسخ: میدان‌های مغناطیسی هدایت شونده و کانال‌های قوس کاتدی فیلتر شده اختیاری (FCVA) ذرات درشت متحد شده را قبل از رسیدن به زیرلایه به دام می‌اندازند.

س: متوسط ​​زمان چرخه فرآیند چقدر است؟

A: رسوب استاندارد TiAlN 3 - 4 ساعت طول می کشد، که شامل پمپ- پایین، گرم کردن، حکاکی، رسوب، و خنک کننده برای یک فیلم 3 - 5 um می شود.

س: آیا بخاری های کمکی در داخل محفظه مورد نیاز است؟

ج: بله. بانک های بخاری تابشی بسترها را تا 350 درجه سانتی گراد - 550 درجه سانتی گراد پیش گرم می کنند تا رطوبت را آزاد کرده و از چسبندگی پوشش اطمینان حاصل کنند.

 

تگ های محبوب: چند-تجهیزات فیلم نازک pvd قوس، تولید کنندگان، تامین کنندگان، کارخانه تجهیزات فیلم نازک pvd چند-چين

ارسال درخواست
با ما تماس بگیریداگر سوالی دارید

شما می توانید از طریق تلفن، ایمیل یا فرم آنلاین زیر با ما تماس بگیرید. متخصص ما به زودی با شما تماس خواهد گرفت.

اکنون تماس بگیرید!