سری EBE-V600 یک پلت فرم-رسوب فیزیکی بخار فیزیکی (PVD) در مقیاس صنعتی است که برای پوشش دقیق نازک- اجزای نوری، دستگاه های نیمه هادی و مواد پیشرفته طراحی شده است. با هدایت یک پرتو الکترونی با انرژی بالا و متمرکز مغناطیسی بر روی مواد منبع در داخل بوتههای خنکشده با آب، سیستم به سرعت تبخیر سریع دست مییابد در حالی که بارهای حرارتی را از دیوارههای محفظه جدا نگه میدارد.
این معماری دارای منابع الکترونی چند جیبی و سنسورهای میکروبالانس کریستال کوارتز دوگانه (QCM) است که از وفاداری لایه استوکیومتری و کنترل ضخامت ثابت در سراسر پشتههای دی الکتریک یا فلزی چند لایه- اطمینان میدهد.
مشخصات فنی
|
پارامتر فنی |
مقدار مشخصات |
|
هندسه و مواد محفظه |
ظرف استوانه ای 600 mm x 600 mm; SS304 داخلی برقی با ژاکت های آب خنک کننده خارجی |
|
فشار پایه نهایی |
<= 5.0 x 10^-5 Pa (achieved via 12-hour bake-out and high-vacuum pumping) |
|
زمان چرخه را پایین بیاورید- |
<= 15 minutes (From atmosphere to 1.0 x 10^-3 Pa) |
|
قدرت تفنگ الکترونی |
6 کیلو وات تا 12 کیلووات پیکربندی چند جیبی با انحراف پرتو 270 درجه |
|
ظرفیت گلدان بوته |
4 تا 6 جیب (بوته های مسی/گرافیتی قابل تعویض، حجم 15 تا 40 سی سی در هر جیب) |
|
چرخش مرحله بستر |
درایو سیاره ای یا مستقیم 0 تا 30 دور در دقیقه |
|
محدوده گرمایش بستر |
محیط تا 600 درجه از طریق آرایه لامپ هالوژن حلقه بسته -PID |
|
نظارت بر ضخامت |
دو سنسور QCM با کنترل بازخورد شاتر خودکار |
ویژگی های کلیدی
انحراف مغناطیسی 270 درجه E-تفنگ:رشته تنگستن را از مسیرهای مستقیم بخار جدا می کند، از اتصال کوتاه- جلوگیری می کند و عمر عملیاتی بین فواصل نگهداری را افزایش می دهد.
کنترل دیجیتالی جابجایی:الگوهای شطرنجی قابل برنامه ریزی انرژی الکترون را به طور یکنواخت در سطح تبخیر توزیع می کند و تشکیل سوراخ سوزنی و تبخیر ترجیحی را در طول رسوب آلیاژ کاهش می دهد.
معماری خلاء جدا شده:خطوط پمپاژ ناهموار و{0}}خلاء بالا از نظر ساختاری از قاب محفظه اصلی جدا شده اند تا انتقال ارتعاش مکانیکی را در طول رشد فیلم مهار کنند.
ماتریس ایمنی اینترلاک سخت افزاری:نظارت بر زمان واقعی PLC جریان آب خنک کننده، بازخورد ولتاژ بالا، فشار پنوماتیک، و یکپارچگی آب بندی درب-.
پیکربندی سیستم خلاء
مدار فرعی خلاء برای چرخش سریع و فشار پایه پایین برای به حداقل رساندن ادغام گاز باقیمانده (H2O، O2، N2) در فیلمهای در حال رشد مهندسی شده است:
پمپ خلاء بالا-:1200 لیتر در ثانیه پمپ مولکولی توربو- که توسط پمپ پره ای دو مرحله ای پشتیبانی می شود (یا پیکربندی پمپ اسکرول خشک برای انطباق با اتاق تمیز).
سوپاپ ایزوله سازی:دریچه دروازه ای با رسانایی بالا{0}}با تحریک پنوماتیک محفظه را در طول عملیات بارگذاری جدا می کند.
اندازه گیری خلاء:یونیزاسیون سنج پیرانی و کاتد سرد ترکیبی که محدوده پیوسته از اتمسفر تا 10^-6 Pa را پوشش می دهد.
مواد و بسترهای فیلم
منابع تبخیر کننده سازگار
اکسیدها و دی الکتریک ها:SiO2، TiO2، Ta2O5، Al2O3، HfO2
فلزات خالص:طلا، نقره، Al، Ti، کروم، پلاتین، نیکل
نیمه هادی ها و هادی ها:Si، Ge، ITO (اکسید قلع ایندیوم)
برنامه های کاربردی
فیلترهای تداخل نوری:رسوب پشتهای-شاخص و کم-چند لایه-برای فیلترهای باند باند باند و آینههای لیزری.
ساخت دستگاه نیمه هادی:تشکیل تماس اهمی، رسوب اکسید دروازه، و لایه های دانه فلزی.
تحقیقات OLED و نمایشگر:رسوب کاتد فلزی نازک و آزمایش های غیرفعال سازی چند لایه آلی/غیر آلی.
پوشش های نسوز سخت:لایههای مقاوم در برابر سایش{0}}برای اجزای مکانیکی و هوافضا.
سفارشی سازی
گسترش اتاق:ارتفاع کشتی یا هندسه های مستطیلی که برای یکپارچه سازی ابزار خوشه ای طراحی شده اند.
یکپارچه سازی منبع:منابع تبخیر حرارتی همزمان (قایق های مقاومتی) همراه با تفنگ های پرتو الکترونی.
رسوب به کمک یون (IAD):ادغام یک منبع یونی انتهایی-هال یا کافمن برای تراکم فیلم و تنظیم تنش.
معماری نرم افزار:برنامه نویسی دستور العمل PLC/HMI مطابق با چارچوب های اتوماسیون زیمنس S7 یا Beckhoff.
کنترل کیفیت
تست نشت هلیوم طیف سنج جرمی:هر جوش محفظه ای تا آستانه رد کمتر از 1×10^-9 Pa·m3/s قبل از ادغام آزمایش می شود.
انطباق الکتریکی:آزمایشهای مقاومت دیالکتریک ولتاژ بالا و تأیید تداوم اتصال به زمین براساس دستورالعملهای CE/UL.
تست پذیرش کارخانه (FAT):72-ساعت خشک مداوم- اجرای منحنی های فشار پایه ورود به سیستم، تکرارپذیری جابجایی پرتو الکترونیکی، و زمان پاسخ به هم قفل. مستندات آزمایشی همراه با واحد ارسال می شود.
نصب و پشتیبانی فنی
راه اندازی سایت:مهندسان تأیید شده کارخانه، تراز مکانیکی، تأیید نشت خلاء، نظارت بر اتصال ابزار، و کالیبراسیون اولیه را مدیریت میکنند.
آموزش فنی:آموزش پروتکل عملیاتی و نگهداری 3 روزه در محل که شامل تعویض رشته، بازسازی دریچه خلاء و ویرایش دستور پخت میشود.
اسناد تحویلی:کلاسورهای فنی کامل از جمله شماتیک های P&ID، نمودارهای سیم کشی برق، فایل های پشتیبان PLC و فهرست بندی قطعات یدکی.
سوالات متداول
س: طول عمر عملیاتی فیلامنت تنگستن e{0}}تفنگ چقدر است و چگونه سرویس میشود؟
A: تحت فشارهای کاری استاندارد (<= 10^-4 Pa) and clean source materials, filament lifespan averages 30 to 50 operational hours. A quick-access vacuum flange allows cartridge exchange within 20 minutes without venting the entire manifold.
س: چگونه سیستم از تف کردن در طول رسوب اکسید جلوگیری می کند؟
A: ژنراتور جاروب دیجیتال انرژی الکترون را در یک ماتریس شطرنجی محاسبه شده روی گلوله اکسید توزیع می کند. این کار گرمای بیش از حد موضعی را از بین می برد، از جوشش انفجاری جلوگیری می کند و خروج قطرات میکرو-را سرکوب می کند.
س: چه زیرساخت های کاربردی در محل نصب اجباری است؟
A: Cooling Water: Supply pressure 0.25 MPa to 0.4 MPa, flow rate >= 30 لیتر در دقیقه، دما 18 درجه تا 25 درجه.
شبکه برق: 3-فاز، 10 ± 380 ولت، 50/60 هرتز (یا طبق استانداردهای منطقه ای پیکربندی شده در کارخانه).
هوای فشرده: 0.5 مگاپاسکال تا 0.7 مگاپاسکال هوای خشک برای محرک های شیر پنوماتیک.
س: آیا دسترسی تشخیصی از راه دور در سیستم کنترل یکپارچه شده است؟
ج: بله. یک پورت اترنت ایزوله از اتصال VPN ایمن برای بازیابی از راه دور PLC و عیب یابی نرم افزار توسط تیم مهندسی ما پشتیبانی می کند.
تگ های محبوب: تجهیزات فیلم نازک تبخیر پرتو الکترونی، تولید کنندگان تجهیزات فیلم نازک تبخیر پرتو الکترونی چین، تامین کنندگان، کارخانه
