تجهیزات لایه نازک رسوب بخار فیزیکی (PVD).

Anhui Chunyuan Coating Technology Co., Ltd. متخصص در تحقیق و توسعه تجهیزات لایه نازک لایه نازک (PVD) برای رسوب دهی بخار فیزیکی است که راه حل های پوششی با کارایی بالا برای کاربردهای صنعتی ارائه می کند. این سیستم فناوری‌های پیشرفته‌ای مانند کندوپاش مگنترون، تبخیر قوس، و آبکاری یونی را ادغام می‌کند و مجهز به یک سیستم فیلتر الکترومغناطیسی ارتقا یافته است که رسوب قابل کنترل آلیاژ نانو به مقیاس میکرو، نیترید فلز و فیلم‌های کامپوزیت با چسبندگی و یکنواختی عالی، یکنواختی را امکان‌پذیر می‌سازد.

پیشرفت‌های فنی اصلی عبارتند از: سیستم فیلتر الکترومغناطیسی و سیستم اسکن الکترومغناطیسی، همراه با فناوری رسوب واکنشی پیشرفته- پلاسما، که می‌تواند ذرات خنثی، خوشه‌های یون ذرات بزرگ و سایر ناخالصی‌ها را فیلتر کند، خلوص پرتو پلاسما را به‌طور قابل‌توجهی بهبود بخشد، و لایه‌های سخت، سایش بهتر و یکنواخت را تهیه کند. مقاومت و مقاومت در برابر خوردگی.

این تجهیزات دارای طراحی محفظه خلاء مدولار است، مجهز به ترکیبات هدف چند قوس و منابع پلاسمای با چگالی بالا (HDPs)، با حداکثر نرخ رسوب تا 5 میکرون در دقیقه، و دمای بستر زیر 200 درجه قابل کنترل است.

علاوه بر این، از حالت PVD هیبریدی مستقل Chunyuan و سیستم افزایش یونیزاسیون گاز راکتیو استفاده می کند، بنابراین در مقایسه با تجهیزات سنتی، سختی پوشش به HV3500 افزایش می یابد و چگالی نقص تا 60٪ کاهش می یابد. این سیستم از بیش از 40 نوع مواد پوششی مانند مواد کامپوزیت AlCrN، TiSiCN و ZrO2-Al2O3 نانو-با بالاترین سختی به 45GPa و مقاومت دمایی بیش از 800 درجه پشتیبانی می‌کند. به رابط Industry 4.0 مجهز است و می‌تواند از طریق مدل‌های رسوب‌گذاری مبتنی بر هوش مصنوعی به بهینه‌سازی پارامتر از راه دور دست یابد.

این تجهیزات در حال حاضر به طور گسترده در قطعات دقیق، میکروالکترونیک، قطعات خودرو، لوازم الکترونیکی مصرفی و زمینه های پوشش تزئینی استفاده می شود. نرخ محلی سازی اجزای اصلی به 85٪ می رسد و مصرف انرژی 30٪ کمتر از محصولات مشابه در اتحادیه اروپا است، که یک پیشرفت بزرگ در زمینه تجهیزات پوشش نهایی چین است.