بررسی اجمالی محصول
سیستم تبخیر قوس کاتدی صنعتی یک پلت فرم-رسوب بخار فیزیکی (PVD) تولیدی است که برای رسوب دادن پوششهای سخت-مقاوم در برابر سایش، مقاوم در برابر خوردگی{2}}و اصطکاک کم- طراحی شده است. با استفاده از کمانهای الکتریکی کم-ولتاژ،-بالا، اهداف کاتد جامد تبخیر شده و فوراً در نقطه کاتد یونیزه میشوند و پلاسمای فلزی بسیار یونیزهشده تولید میکنند.
این سیستم که بر اساس استانداردهای مدیریت کیفیت ISO 9001 و دستورالعملهای انطباق با CE طراحی و تولید شده است، برای عملیات پوشش دهی بالا{1}}در بخشهای تولید ابزار، قطعات خودرو، و بخشهای سختافزار صنعتی پیکربندی شده است. پیکربندیهای استاندارد، طرحبندیهای چند کاتدی را با فرمان میدان مغناطیسی{{4} مستقل، منابع تغذیه بایاس DC/پالسی قابل برنامهریزی، و کنترل خلاء خودکار برای حفظ استوکیومتری فیلم و ریزساختارهای متراکم یکپارچه میکنند.
-
![سیستم لایه نازک تبخیر قوس]()
سیستم لایه نازک تبخیر قوسسیستم لایه نازک تبخیر قوس کاتدی صنعتی برای رسوب{0}بالای پوششهای ترکیبی فلزی، آلیاژی و سرامیکی متراکم، با چسبندگی قوی طراحی شده است. این سیستم از طریق تخلیه کم-ولتاژ و جریان بالا-روی اهداف کاتدی...مشاهده بیشتر -
![تجهیزات PVD تبخیر قوس]()
تجهیزات PVD تبخیر قوسسیستم PVD تبخیر قوس کاتدی صنعتی از قوسهای الکتریکی با جریان کم-ولتاژ- برای تبخیر اهداف کاتدی جامد در محیط خلاء استفاده میکند. این مکانیسم به نرخ یونیزاسیون فلزی بیش از 80 درصد دست می یابد که از...مشاهده بیشتر -
![سیستم لایه نازک قوس خلاء]()
سیستم لایه نازک قوس خلاءسیستم لایه نازک قوس خلاء صنعتی از تبخیر قوس کاتدی برای رسوب لایه های نازک فلزی، آلیاژی و سرامیکی متراکم، بسیار چسبنده استفاده می کند. یک قوس-جریان بالا و ولتاژ پایین-مواد کاتد جامد را به یک جریان...مشاهده بیشتر -
![تجهیزات لایه نازک قوس کاتدی]()
تجهیزات لایه نازک قوس کاتدیسیستم رسوبگذاری بخار فیزیکی (PVD) با استفاده از قوسهای الکتریکی با جریان کم-ولتاژ- محلی برای تبخیر اهداف کاتدی جامد به پلاسمای کاملاً یونیزه شده. نرخ یونیزاسیون بالا (40%-80%) باعث ایجاد پیوند...مشاهده بیشتر -
![تجهیزات رسوب دهی تبخیر قوس]()
تجهیزات رسوب دهی تبخیر قوسپلت فرم رسوب بخار فیزیکی صنعتی (PVD) برای سنتز{0}}روش های سخت متراکم، مقاوم در برابر سایش و عملکردی با سرعت بالا مهندسی شده است. تداوم تخلیه قوس کاتدی با-جریان بالا،-ولتاژ پایین بر روی سطوح هدف...مشاهده بیشتر -
![تجهیزات لایه نازک تبخیر قوس]()
تجهیزات لایه نازک تبخیر قوساین سیستم تبخیر قوس کاتدی، اهداف کاتدی جامد را از طریق یک قوس الکتریکی با جریان کم-ولتاژ- تبخیر میکند تا پلاسمای فلزی کاملاً یونیزه شده تولید کند. در مقایسه با تبخیر حرارتی استاندارد یا کندوپاش...مشاهده بیشتر
مشخصات فنی
|
پارامتر |
محدوده مشخصات / پیکربندی استاندارد |
|
ابعاد اتاقک |
قطر: 800 میلیمتر - 1800 میلیمتر (طرحبندیهای عمودی/افقی قابل تنظیم) |
|
مواد اتاقک |
فولاد ضد زنگ دو جداره-SUS304 با کانال های خنک کننده داخلی{2} |
|
فشار خلاء نهایی |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Achieved via roots blower and molecular/oil diffusion pump groups) |
|
پیکربندی کاتد |
4 تا 12 منبع قوس مستطیلی / دایره ای با فرمان الکترومغناطیسی |
|
منبع تغذیه قوس |
300A - 500یک جریان ثابت قابل تنظیم، موج دار<= 2% |
|
قدرت تعصب بستر |
0 تا -1000 ولت قابل تنظیم، فرکانس بایاس پالسی 10 کیلوهرتز - 100 کیلوهرتز |
|
سیستم گرمایش |
آرایه بخاری تابشی، حداکثر درجه حرارت 600 درجه +/{2}} درجه یکنواختی |
|
چرخش قطعه کار |
چرخش سیارهای یا دو محوری{0}}که توسط جریان سیال مغناطیسی هدایت میشود |
|
سیستم کنترل |
PLC + PC صنعتی، دستور-کنترل توالی خودکار مبتنی بر دستور |
|
الزامات ابزار |
آب خنک کننده: 0.25-0.35 مگاپاسکال، 20-25 درجه؛ برق: 380 ولت / 480 ولت، 3 فاز، 50/60 هرتز |
فرآیند تبخیر قوس الکتریکی
چرخه رسوب تحت کنترل رویه ای دقیق عمل می کند تا یکپارچگی فیلم و چسبندگی رابط را تضمین کند:
تخلیه و تخلیه گاز:
محفظه خلاء تا فشار پایه به پایین پمپ می شود. بسترها تحت خلاء گرم می شوند تا فرارهای سطحی و رطوبت باقیمانده از بین بروند.
01
اچ پلاسما (تمیز کردن):
بمباران یون فلزی (با استفاده از منابع هدف تیتانیوم یا کروم) سطح زیرلایه را در سطح اتمی تمیز می کند، اکسیدهای بومی را از بین می برد و رابط را فعال می کند.
02
رسوب واکنشی:
گازهای راکتیو (N2، CH4، O2) از طریق کنترلکنندههای جریان جرمی (MFCs) به محفظه تزریق میشوند تا با شار پلاسمای فلزی (مانند Ti، Cr، AlTi) واکنش دهند و فیلمهای ترکیبی مانند TiN، TiAlN یا CrN را تشکیل دهند.
03
سرمایش و تهویه:
خنکسازی پست{0}}در فضای گاز خنثی محافظ قبل از هواگیری محفظه و بازیابی قطعه اتفاق میافتد.
04
اهداف کاتدی پشتیبانی شده
تیتانیوم (Ti) و تیتانیوم آلومینیوم (TiAl):مواد پایه برای قلع استاندارد و پوششهای TiAlN با مقاومت{0}در برابر اکسیداسیون{{1} بالا (مقاوم در برابر اکسیداسیون تا 900 درجه).
کروم (Cr):برای پرداخت های تزئینی و لایه های مقاوم در برابر خوردگی{0}CrN/CrC استفاده می شود.
زیرکونیوم (Zr) و سیلیکون تیتانیوم (TiSi):برای فیلمهای نانوکامپوزیت مقاوم در برابر سایش و تزیین تخصصی خاص استفاده میشود.
مواد بستر سازگار
فولاد سریع-(HSS):مته های پیچشی، آسیاب های انتهایی، اجاق گاز و سوپاپ.
کاربیدهای سیمانی (WC{0}}شرکت):درجها، ریمرها و قالبهای غیرقابل نمایش.
فولادها و آلیاژهای مهندسی:اجزای شیر خودرو، چرخ دنده ها، سخت افزار بهداشتی فولاد ضد زنگ و ایمپلنت های پزشکی تیتانیوم.
برنامه ها و تاثیر عملکرد
ابزارهای برش فلز:
رسوب پوششهای TiAlN و AlCrN روی درجهای کاربید و آسیابهای انتهایی، طول عمر ابزار را 200% تا 300% افزایش میدهد و ماشینکاری با سرعت بالا را خشک میکند.
قالب های شکل دهی و مهر زنی:
استفاده از پوششهای متراکم-با اصطکاک کم برای کاهش ساییدگی چسب، ضایعات و چسبندگی قطعه کار در طول کشش عمیق و کاهش زمان از کار افتادگی تا 40%.
پیشرانه خودرو:
درمان رینگهای پیستون، پینهای تزریق سوخت و شمشها برای به حداقل رساندن ضریب اصطکاک مرزی تا کمتر از 0.15 و جلوگیری از سایش ساییده شدن.
شیر آلات صنعتی و بهداشتی:
لایههای PVD تزئینی سخت (طلای قلع، رزگلد، زیرکونیوم سیاه) با گذراندن حداقل 500 ساعت آزمایش نمک پاشش خنثی (ASTM B117).
سفارشی سازی و پیکربندی فرآیند
چیدمان تجهیزات با توجه به حجم تولید، هندسه قطعه و ردپای کارخانه مقیاس می شود:
هندسه محفظه ای:
سازه های بارگذاری عمودی برای ابزارهای سنگین؛ پیکربندیهای دسته افقی برای بارگیری وسایل با ظرفیت بالا-.
یکپارچه سازی منبع:
پیکربندیهای ترکیبی که منابع قوس کاتدی را با کاتدهای کندوپاش مگنترون نامتعادل (RMS) ترکیب میکنند تا معماریهای چندلایهای صاف و قطرات{0}}رایگان را رسوب دهند.
سیستم های فیلتراسیون:
فیلترهای درشت ذرات مغناطیسی اختیاری (فیلترهای قوس هدایت شده) نصب شده روی کانال های کاتدی برای حذف قطرات ماکرو-برای پوشش های عملکردی با دقت نوری یا فوق{1}}صاف.
رابط اتوماسیون:
ادغام{0}}آماده برای بازوهای بارگیری رباتیک و مرحلهبندی دستهای وسیله نقلیه هدایتشونده خودکار (AGV).
یکپارچگی ساختاری:اجسام محفظه تحت آزمایش نشت طیفسنج جرمی هلیوم در آستانه حساسیت قرار میگیرند<= 1 x 10^-9 Pa*m3/s prior to assembly.
ایمنی و انطباق الکتریکی:کاملاً مطابق با دستورالعمل های ایمنی الکتریکی CE و IEC ساخته شده است که دارای تست عایق کامل و قفل های ایمنی اضطراری است.
عملکردی-خاموش (FAT):Each system undergoes a 72-hour continuous dry-run test and a full-process thermal deposition test in our factory. Coating thickness uniformity (+/- 5%) and adhesion (Scratch Tester critical load Lc >= 40 N / تورفتگی Rockwell HF1-HF2) در کوپنهای آزمایشی استاندارد قبل از ارسال تأیید میشوند.
نصب و پشتیبانی فنی
پکیج آماده سازی سایت:
نقشههای طرحبندی ابزار جامع با جزئیات نرخ جریان آب خنککننده، تهویه خروجی، ظرفیت بار کف، و مشخصات ریزش الکتریکی 4 هفته پس از قرارداد ارائه شده است.
در{0}}راه اندازی سایت:
مهندسین فرآیند دارای گواهی کارخانه- تراز مکانیکی، تشخیص نشت خلاء، ادغام الکتریکی و راهاندازی دستور اولیه اولیه را در مرکز مشتری انجام میدهند.
انتقال دستور غذا:
تحویل شامل دستور العمل های پایه استاندارد (TiN، TiAlN، CrN) و آموزش عملیاتی برای تیم های تعمیر و نگهداری داخلی و مهندسی است.
پشتیبانی تشخیص از راه دور:
سیستم های مجهز به دروازه های روتر صنعتی ایمن برای عیب یابی پارامترهای از راه دور و تشخیص منطق PLC.
سوالات متداول
ما به خوبی-به عنوان یکی از تولیدکنندگان و تامین کنندگان تجهیزات فیلم نازک تبخیر قوس الکتریکی در چین شناخته شده ایم. اگر می خواهید تجهیزات فیلم نازک تبخیر قوس سفارشی ساخت چین را خریداری کنید، به لیست قیمت از کارخانه ما خوش آمدید. برای مشاوره قیمت با ما تماس بگیرید.
