این سیستم تبخیر قوس کاتدی، اهداف کاتدی جامد را از طریق یک قوس الکتریکی با جریان کم-ولتاژ- تبخیر میکند تا پلاسمای فلزی کاملاً یونیزه شده تولید کند. در مقایسه با تبخیر حرارتی استاندارد یا کندوپاش مگنترون، این فرآیند PVD چگالی پلاسما بالاتر و لایهای برتر{3}}به{4}}چسبندگی زیرلایه ارائه میکند که برای پوششهای سخت کاربردی، مقاوم در برابر سایش و تزئینی طراحی شده است.
مشخصات فنی
|
پارامتر |
محدوده / مقدار مشخصات |
|
ابعاد اتاقک |
پیکربندی های استوانه ای/جعبه سفارشی (استاندارد: Φ600mm x 600mm تا 1200mm x 1200mm) |
|
فشار خلاء نهایی |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and rotary vane/roots pump suite) |
|
پمپ-زمان خاموشی |
اتمسفر تا 8.0 x 10^-3 Pa in<= 15 minutes (Dry, clean, empty chamber) |
|
منابع تغذیه قوس |
ژنراتورهای پالس و DC (خروجی: 0 - 200قابل تنظیم، موج دار<= 1%) |
|
منابع کاتدی |
2 تا 6 منبع مغناطیسی-فیلتر شده یا استاندارد قوس فرمان دایره ای/مستطیلی شکل |
|
ولتاژ بایاس بستر |
0 - -1000V DC/بایاس پالسی (فرکانس: 10 - 100 کیلوهرتز) |
|
چرخش بستر |
مکانیسم چرخش سیارهای یا تک محوری- (1 - 15 RPM) با ورودیهای آب/الکتریکی |
|
کنترل عملیاتی |
PLC + کامپیوتر صنعتی با اجرای خودکار دستور العمل و بازخوانی اینترلاک دستی |
ویژگی های کلیدی
منابع فیلتر مغناطیسی:مجراهای مغناطیسی داخلی ریز قطرات متحد شده را از شار بخار منحرف می کنند و زبری سطح پایین (Ra) را برای قطعات دقیق تضمین می کنند.
کنترل سوگیری حلقه بسته{{0}: Synchronized pulsed bias regulation manages ion bombardment energy dynamically, relieving residual internal stress in thick ceramic coatings (>10 ام).
نرخ یونیزاسیون بالا:راندمان یونیزاسیون پلاسما به 40٪ - 80٪ می رسد، ایجاد پیوندهای شیمیایی متراکم بدون کمک فرکانس رادیویی خارجی.
طراحی اتاقک مدولار:ساخته شده از فولاد ضد زنگ 304/316L با سطوح داخلی الکترو-براق شده (Ra<= 0.4 um), minimizing outgassing and vacuum cycle times.
پیکربندی سیستم خلاء
پمپ های زبر و ریشه:پمپهای پرهای دو مرحلهای که با دمندههای تقویتکننده مکانیکی جفت میشوند، زبری اولیه و بارهای گاز زیاد را در حین تزریق راکتیو N2 یا C2H2 کنترل میکنند.
پمپ های خلاء بالا:پمپهای مولکولی توربوی شناور مغناطیسی (1200 - 3200 L/s) سرعت پمپاژ بالایی را برای بخار آب باقیمانده و گازهای سبک حفظ میکنند.
سوپاپ و سنج:شیرهای دروازه پنوماتیک، فلنجهای آببندی با خلاء بالا-ISO/CF و سنجهای یونیزاسیون کاتد ترکیبی پیرانی/هت{1} که مستقیماً در حلقه اینترلاک PLC ادغام شدهاند.
سازگاری مواد و بستر
اهداف کاتدی سازگار
فلزات خالص:Ti، Cr، Al، Zr، Cu، Ni، Ag، Mo، W
آلیاژها و ترکیبات:TiAl، CrAl، TiSi، WC، اهداف گرافیتی برای رسوب-مثل کربن (DLC) الماس
مواد بستر
فلزات سخت و کاربیدها:کاربیدهای سیمانی (WC{0}}Co)، فولاد سریع- (HSS)، درج برش فولاد ضد زنگ
نیمه هادی ها و سرامیک ها:ویفر سیلیکونی، آلومینا (Al2O3)، سرامیک فنی مهندسی
برنامه های کاربردی
ابزار برش و قالب:رسوب قلع، TiAlN و CrN روی مته ها، آسیاب های انتهایی و قالب های مهر زنی برای افزایش سختی سطح تا 2500 - 3500 HV و کاهش اصطکاک.
اجزای خودرو:لایههای{0}}مقاوم و با اصطکاک کم- روی رینگهای پیستون، پینهای انژکتور و دندانههای چرخ دنده سایش دارند.
پوشش های سخت تزئینی:پوشش های رنگی PVD (طلا، رزگلد، گن متال، تیتانیوم سیاه) برای محفظه های سخت افزاری و لوازم الکترونیکی مصرفی.
لایه های نازک عملکردی:لایه های رسانا و مانع برای بسته بندی میکروالکترونیک و نیمه هادی.
سفارشی سازی
اندازه اتاقک:تغییرات حجم مقیاس شده مطابق با هندسه دسته ای خاص و ردپای تولید.
هیبریداسیون منبع:ادغامهای چند{0} کاتدی که منابع قوس کاتدی را با کاتدهای کندوپاش مگنترون نامتعادل (UBMS) برای فیلمهای چند لایه گرادیان ترکیب میکنند.
تثبیت بستر:جک های سیاره ای سفارشی، آرایه های گرمایش موضعی تا 600 درجه و ورودی های برق سفارشی شده.
یکپارچه سازی نرم افزار:منطق دستور العمل PLC سفارشی، ثبت داده های SCADA، و تنظیمات انطباق صنعتی.
کنترل کیفیت
تشخیص نشت:آزمایش طیفسنج جرمی هلیوم بر روی تمام محفظهها و درزهای جوش، تضمین نرخ نشت کلی<= 1.0 x 10^-9 Pa·m^3/s.
بازرسی ایمنی برق:آزمایش مقاومت دی الکتریک با پتانسیل بالا، بررسی تداوم اتصال به زمین، و تأیید پاسخ اینترلاک قبل از بسته بندی.
قابلیت ردیابی مواد:گزارشهای آزمایش مواد (MTR) برای سازههای فولادی ضد زنگ، آببندیهای خلاء و اجزای عایق ولتاژ بالا-.
اجرای آزمایشی قبل از ارسال:72-ساعت آزمایش خشک مداوم مجموعه پمپاژ، درایوهای چرخشی و منابع تغذیه تحت سیکل های شبیه سازی شده.
نصب و پشتیبانی فنی
راهنمای آماده سازی سایت:Utilities documentation covering floor load limits, cooling water flow rates (>15 m^3/h در 20 - 25 درجه)، استخراج اگزوز، و قطرات الکتریکی (380V/480V، 3 فاز، 50/60Hz).
راه اندازی و پذیرش:تست پذیرش کارخانه (FAT) در مرکز ما؛ آزمایش پذیرش سایت (SAT) و تحویل فرآیند در{0}}سایت توسط مهندسان مقیم اجرا شد.
پشتیبانی چرخه حیات:ایمن تشخیص از راه دور VPN، انبار کردن موجودی قطعات یدکی (هدف، سپر، مهر و موم)، و آموزش تعمیر و نگهداری تکنسین محلی.
سوالات متداول
س: چگونه سیستم تشکیل قطرات (درشت ذرات) را که ذاتی تبخیر قوس است به حداقل می رساند؟
A: سیستم از منابع قوس کاتدی فیلتر شده مغناطیسی (فرمان مغناطیسی و فیلتر کانال) استفاده می کند. این جریان پلاسما را خم میکند در حالی که ریز قطرات را روی بافلهای داخلی به دام میاندازد و مورفولوژی فیلم صاف و قطرهای-آزاد میدهد.
س: محدوده دمای بستر در طول رسوب گذاری چقدر است و گرما چگونه مدیریت می شود؟
A: دمای عملیاتی از 150 درجه تا 500 درجه متغیر است. بخاریهای تشعشع یکپارچه و کانالهای خنککننده-حلقهای آب-در داخل نگهدارنده بستر، از اعوجاج حرارتی اجزای حساس جلوگیری میکند.
س: آیا تجهیزات می توانند چرخه های تولید خودکار را به طور مداوم اجرا کنند؟
ج: بله. معماری PLC پایین پمپ، تهویه هدف، احتراق قوس، کنترل گاز راکتیو از طریق کنترلکنندههای جریان انبوه (MFC) و توالیهای تخلیه را در چند-حرکات دستهای خودکار میکند.
س: چه الزامات ابزاری باید در سایت-قبل از تحویل آماده باشد؟
A: الزامات شامل تامین آب سرد پایدار، هوای فشرده (0.6 - 0.8 مگاپاسکال) برای دریچههای پنوماتیک، تغذیههای برق مطابق با بار سیستم (60 - 120 kVA) و خطوط گاز فرآیندی تنظیمشده (آرگون، نیتروژن، استیلن) است.
تگ های محبوب: تجهیزات فیلم نازک تبخیر قوس الکتریکی، تولید کنندگان تجهیزات فیلم نازک تبخیر قوس الکتریکی چین، تامین کنندگان، کارخانه

