تجهیزات لایه نازک کندوپاش مگنترون

تجهیزات فیلم نازک Magnetron Sputtering از فناوری هسته بالغ شرکت استفاده می کند: تمیز کردن پرتو یونی با انرژی بالا + منبع کندوپاش مگنترون (Magnetron Sputtering)، تجهیزات کنترل کامل خودکار، بهینه سازی یکپارچه مدولار، تجهیزات با قدرت بالا، عملکرد پایدار، عملیات ساده و نگهداری آسان را اتخاذ می کنند. به منظور پاسخگویی به نیازهای مختلف پوشش، محفظه را می توان با انواع اهداف مانند اهداف دایره ای مسطح، اهداف نواری و اهداف استوانه ای طراحی و پیکربندی کرد و می توان فیلم های کامپوزیت چند لایه با چگالی بالا و عملکرد یکنواخت خوب، از جمله فلزات مختلف، اجزای الکترونیکی، مواد اکسید فرومغناطیسی، و همچنین فیلم های سرامیکی و همچنین فیلم های سولفی را به دست آورد. تجهیزات فیلم نازک Magnetron Sputtering برای توسعه پوشش و خدمات پوشش دسته ای مناسب است.

تجهیز لایه نازک پراکنده Magnetron دارای یک فناوری هسته منحصر به فرد، میدان مغناطیسی و مسیر گاز فرآیندی ویژه طراحی شده است، به طور موثر نرخ بهره برداری هدف و پایداری طولانی مدت فرآیند را بهبود می بخشد.

اکسپرس رابط جهانی مدولار، به طور مستقیم با اشکال مختلف اهداف کاتدی سازگار است، اجازه می دهد تا پالس DC، IF، حالت کار RF. سازگاری قوی؛

express سیستم عامل فرآیند هوشمند خودکار طراحی شده خود-قابلیت‌های ویرایش فرمول و فراخوانی فرآیند جامع و راحت را ارائه می‌کند، مجهز به سیستم نظارت بر پارامترهای زمان واقعی-که امکان کنترل از راه دور آنلاین را فراهم می‌کند.