سیستم لایه نازک قوس خلاء

سیستم لایه نازک قوس خلاء

جزئیات
سیستم لایه نازک قوس خلاء صنعتی از تبخیر قوس کاتدی برای رسوب لایه های نازک فلزی، آلیاژی و سرامیکی متراکم، بسیار چسبنده استفاده می کند. یک قوس-جریان بالا و ولتاژ پایین-مواد کاتد جامد را به یک جریان پلاسمای بسیار یونیزه شده تبخیر می‌کند (نرخ یونیزاسیون 40% - 80%)، و تضمین می‌کند که لایه فوق‌العاده-برای-استحکام پیوند بستر و نرخ رسوب‌گذاری بالا باشد.
طبقه بندی محصول
تجهیزات لایه نازک تبخیر قوس
 
ارسال درخواست
شرح
پارامترهای فنی

سیستم لایه نازک قوس خلاء صنعتی از تبخیر قوس کاتدی برای رسوب لایه های نازک فلزی، آلیاژی و سرامیکی متراکم، بسیار چسبنده استفاده می کند. یک قوس-جریان بالا و ولتاژ پایین-مواد کاتد جامد را به یک جریان پلاسمای بسیار یونیزه شده تبخیر می‌کند (نرخ یونیزاسیون 40% - 80%)، و تضمین می‌کند که لایه فوق‌العاده-برای-استحکام پیوند بستر و نرخ رسوب‌گذاری بالا باشد.


این پلتفرم که برای تولید صنعتی و تحقیقات مواد پیشرفته طراحی شده است، پیکربندی‌های چند{0} کاتدی، مدیریت دقیق گاز راکتیو، و کنترل فرآیند خودکار برای پوشش‌های صنعتی مانند TiN، TiAlN، CrN و DLC را ادغام می‌کند.

 

مشخصات فنی

 

پارامتر

مشخصات

ابعاد اتاقک

Phi 600 mm x 600 mm (قابل تنظیم تا Phi 1500 mm)

ساختار اتاق

فولاد ضد زنگ 304، دو جداره-آب خنک-، الکتروپلاش داخلی Ra<= 0.4 um

فشار پایه

<= 5.0 x 10^-4 Pa (ISO 3567 compliant)

فشار کاری

0.1 Pa - 5.0 Pa

پکیج پمپاژ

پره دوار + دمنده ریشه + پمپ{2}}توربومولکولی/ انتشار با سرعت بالا

منبع تغذیه قوس

ژنراتورهای DC/Pulsed DC (10 A - 200 A، ریپل<= 1%)

سوبسترای سوبسترا

بایاس پالس DC: 0 ~ -1000 ولت قابل تنظیم با سرکوب قوس

منابع کاتدی

2 ~ 6 منبع مغناطیسی{2}} فیلتر شده یا قوس فرمان (Phi 85 / Phi 100 میلی متر)

فیکسچر بستر

چرخش سیاره ای (1 تا 10 دور در دقیقه) با گرمایش تا 600 درجه سانتیگراد

معماری کنترل

PLC + صفحه لمسی صنعتی رایانه شخصی (اتوماسیون دستور غذا، گزینه آماده CFR 21 قسمت 11)

 

ویژگی های کلیدی


یونیزاسیون پلاسما بالا:یونیزاسیون قوس کاتدی (40% - 80%) باعث افزایش هسته‌زایی لایه متراکم می‌شود و نقص‌های ریزساختار ستونی را از بین می‌برد.


افزایش قدرت چسبندگی:پاکسازی یونی با انرژی بالا-درجا به بارهای خراش بحرانی (Lc) بیش از 40 نیوتن روی فولاد ابزار (تایید ASTM C1624) دست می یابد.


فیلتر مغناطیسی حلقوی (اختیاری):مسیرهای پلاسما را برای به دام انداختن و از بین بردن قطرات ماکرو منحرف می کند و باعث ایجاد ناقص-روکش های نانو صاف-آزاد می شود.


کنترل واکنشی حلقه بسته{{0}:کنترل‌کننده‌های جریان جرمی (MFCs) N2، O2، C2H2 و Ar را برای رسوب‌گذاری ترکیبات استوکیومتری به دقت تنظیم می‌کنند.


تعمیر و نگهداری سریع:مونتاژ کاتد{0}}سریع امکان تعویض هدف را در عرض 30 دقیقه می دهد.

 

پیکربندی سیستم خلاء


مرحله زبر و ریشه:مستقیم{0}}پره چرخشی و پمپ تقویت کننده مکانیکی برای تخلیه سریع تا 10 Pa.


مرحله خلاء بالا:پمپ انتشار روغن با تله سرد نیتروژن مایع یا پمپ توربومولکولی معلق مغناطیسی (1600 L/s) که به کمتر از 5 x 10^-4 Pa می رسد.


گیج و اینترلاک:دو گیج یونیزاسیون پیرانی و کاتد سرد جفت شده با شیرهای دروازه پنوماتیک اتوماتیک و اینترلاک PLC.

 

سازگاری مواد تبخیر و بستر


Cathode Targets (Purity >= 99.95%):
فلزات:
Ti، Cr، Al، Zr، Cu، Mo، W، Ag، Au


آلیاژها/ترکیبات:TiAl، TiSi، CrAl، WC، گرافیت (C)


مواد بستر:
فولادهای ابزار:
SKH51، M2، D2، درج کاربید


آلیاژها:فولاد ضد زنگ 304/316L، Inconel، Ti-6Al-4V


سرامیک/شیشه:آلومینا، کوارتز (فعال سازی سطحی مورد نیاز است)

 

برنامه های کاربردی


ابزار برش و شکل دهی:پوشش‌های TiN، TiAlN، و AlCrN روی مته‌ها، آسیاب‌های انتهایی و قالب‌های مهر زنی (سختی: 2500 - 3200 HV).


اجزای خودرو:پوشش‌های مقاوم در برابر اصطکاک-روکش‌های-روی رینگ‌های پیستون و پین‌های تزریق سوخت.


سخت افزار تزئینی:روکش های فلزی کاربردی (طلا، رزگلد، مشکی تفنگی) برای سخت افزار مصرف کننده.


ایمپلنت های زیست پزشکی:پوشش های سخت زیست سازگار در دستگاه های جراحی و دندانپزشکی (پروفیل های سازگار با ISO 10993).

 

گزینه های سفارشی سازی


مقیاس اتاقی:محفظه‌های مستطیلی یا استوانه‌ای بزرگ برای دسته‌های-با حجم بالا.


تنظیمات ترکیبی:منبع‌های قوس کاتدی جفت‌شونده-تکنولوژی دوگانه با کندوپاش مگنترون نامتعادل (UBMS).


حالت های تعصب:ادغام بایاس RF برای زیرلایه های عایق یا نیمه هادی.


یکپارچه سازی داده ها:پروتکل های OPC UA / Modbus TCP برای اتصال MES.

 

کنترل و تست کیفیت


اجرا شده تحت استانداردهای مدیریت کیفیت ISO 9001:


تشخیص نشت هلیوم:آزمایش طیف سنج جرمی روی تمام جوش ها (نرخ نشت سیستم<= 1.0 x 10^-9 Pa*m^3/s, ISO 3529 compliant).


ایمنی برق:مقاومت عایق و تداوم اتصال به زمین طبق CE / IEC 60204-1 ممیزی شده است.


اعتبار سنجی عملکردی:اجرای خشک مکانیکی و الکتریکی مداوم 72 ساعته.


تست پذیرش کارخانه (FAT):رسوب آزمایشی تأیید یکنواختی ضخامت (+/- 5%) و معیارهای چسبندگی در کوپن‌های آزمایشی مشتری.

 

نصب و پشتیبانی فنی


تسهیلات قبل از-بررسی:Complete utility blueprint detailing cooling water (>= 5 m^3/h)، ظرفیت نیرو، و تهویه اگزوز.


در{0}}راه اندازی سایت:نظارت بر نصب مکانیکی، اتصال ابزار، و صلاحیت خلاء توسط مهندسان میدان.


آموزش اپراتور:برنامه عملی 5-روزه که عملیات معمول، تعمیر و نگهداری، جایگزینی هدف و برنامه‌نویسی PLC را پوشش می‌دهد.


خدمات چرخه حیات:تشخیص ایمن از راه دور VPN و ارسال قطعات یدکی حیاتی 48 ساعته.

 

سوالات متداول

 

س: چگونه فیلتر مغناطیسی بر میزان رسوب تاثیر می گذارد؟

پاسخ: در حالی که فیلترهای مغناطیسی قطرات ماکرو{0}}را برای سطوح اپتیکال/الکترونیکی دقیق حذف می‌کنند، مسیر فرمان پلاسما نرخ رسوب مؤثر را تقریباً 20% - 30% در مقایسه با پیکربندی‌های قوس فرمان بدون{3} فیلتر شده مستقیم کاهش می‌دهد.

س: فاصله زمانی جایگزینی هدف معمولی چقدر است؟

پاسخ: یک هدف تیتانیوم استاندارد Phi 100 میلی‌متری که در 100 A عمل می‌کند، 60 - 100 دسته‌های تولیدی را تولید می‌کند، مشروط به ضخامت لایه و چرخه کار.

س: آیا بسترهای غیر رسانا با این سیستم سازگار هستند؟

پاسخ: بله، مشروط بر اینکه یک پیکربندی بایاس پالسی DC یا RF برای جلوگیری از تجمع بار سطحی و ایجاد قوس در هنگام بمباران یونی مشخص شده باشد.

س: پارامترهای ابزار دقیق تسهیلات برای واحد استاندارد چیست؟

A: منبع تغذیه: 3 فاز، 380 V +/- 10٪، 50/60 هرتز (~45 کیلو وات کل).
Cooling Water: >= 5 m^3/h در 0.2 - 0.3 MPa (15 C - 25 C).
هوای فشرده: 0.5 - 0.7 مگاپاسکال برای تحریک پنوماتیک.

 

تگ های محبوب: سیستم فیلم نازک قوس خلاء، تولید کنندگان سیستم فیلم نازک قوس خلاء چین، تامین کنندگان، کارخانه

ارسال درخواست
با ما تماس بگیریداگر سوالی دارید

شما می توانید از طریق تلفن، ایمیل یا فرم آنلاین زیر با ما تماس بگیرید. متخصص ما به زودی با شما تماس خواهد گرفت.

اکنون تماس بگیرید!