The Multi-Arc Ion Deposition System performs industrial-scale cathodic arc evaporation for hard, wear-resistant, and low-friction thin films. The process achieves >یونیزاسیون 80 درصدی مواد کاتد جامد، بمباران یونی با انرژی بالا به سطح مشترک بستر برای چسبندگی فیلم برتر در مقایسه با کندوپاش مگنترون.
محفظه خلاء فولادی دوجداره-زنگزنگ-منابع قوس مدولار و یک پمپ مدیریت چرخه خودکار کنترلشده PLC-در پایین، در{4}}اچ پلاسما درجا، تحویل گاز راکتیو، و رسوب چند لایه{{5} را در خود جای داده است.
مشخصات فنی
|
پارامتر |
مشخصات |
|
اندازه اتاقک |
قطر داخلی سفارشی (Phi 800 mm - Phi 1500 mm) |
|
مواد کشتی |
دو جداره-SUS304 / SUS316L با کانال های خنک کننده داخلی |
|
فشار پایه |
<= 5.0 x 10^-3 Pa (dry-pumped) |
|
پمپ-زمان خاموشی |
اتمسفر تا 6.0 x 10^-2 Pa in<= 15 minutes (clean, empty) |
|
کاتدهای قوس |
4 تا 12 منبع مستطیلی یا مدور |
|
منابع تغذیه |
قوس DC (0-200 A) و بایاس پالس (0-3000 V) |
|
چرخش بستر |
چرخش چند محوری-سیارهای/تک- از طریق جریان سیال مغناطیسی |
|
سیستم کنترل |
زیمنس S7-1500 PLC + IPC با دستور العمل های خودکار |
|
الزامات ابزار |
آب سرد (18-25 درجه سانتیگراد، 0.2-0.4 مگاپاسکال)؛ هوای فشرده (0.5-0.7 مگاپاسکال) |
ویژگی های کلیدی
نرخ یونیزاسیون بالا:لایه لایه شدن فیلم را از طریق بمباران یونی متراکم به حداقل می رساند.
پایداری قوس کنترل شده:محرکهای قابل برنامهریزی و تنظیم جریان حلقه بسته، تشکیل ذرات بزرگ (قطرات) را سرکوب میکنند و از مسمومیت هدف تحت گازهای راکتیو (N2، C2H2، O2) جلوگیری میکنند.
منابع قوس مدولار:مکانهای کناری و درب برای توزیع ضخامت یکنواخت با هندسههای پیچیده ابزار سه بعدی سازگار هستند.
بایاس بستر پالسی:پالس های ولتاژ همگام تنش پسماند، پالایش دانه و ریزسختی را تنظیم می کنند.
مراحل چرخش سنگین-وسایل سیاره ای از بارهای دسته ای تا 500 کیلوگرم تحت بارهای حرارتی و خلاء بالا پشتیبانی می کنند.
پیکربندی سیستم خلاء
خشن کردن و ریشه ها:پمپهای پیچ خشک چند مرحلهای همراه با دمندههای Roots از آلودگی هیدروکربنی تا فشارهای انتقالی جلوگیری میکنند.
خلاء بالا:پمپهای توربومولکولی یا دیفیوژن فشار پایه فوقالعاده{{0} بالا را حفظ میکنند.
تله گذاری و سنجش:تله سرد نیتروژن مایع اختیاری؛ گیجهای ترکیبی -پیرانی/کتد سرد با برد وسیع.
سازگاری مواد تبخیر و بستر
اهداف کاتدی:فلزات خالص (Ti، Cr، Al، Zr، Mo، W) و اهداف آلیاژی (TiAl، TiSi، CrAl، WC-Co).
مواد بستر:فولاد سریع-(HSS)، درج های کاربید، فولادهای ابزار کار سرد/گرم (SKD11، H13)، فولاد ضد زنگ و آلیاژهای تیتانیوم.
قبل از-درمان:تمیز کردن اولتراسونیک آبی و به دنبال آن -درجا Ar+ یا حکاکی با بمباران یون فلزی برای حذف اکسیدهای بومی.
برنامه های کاربردی
ابزار برش:TiN, TiAlN, and AlCrN coatings on end mills and drills to achieve >سختی سطح 3000 HV و مقاومت در برابر اکسیداسیون.
قالب ها و قالب ها:لایه های محافظ روی قالب های تزریق و قالب های مهر زنی برای جلوگیری از ساییدگی و سایش.
خودرو:پوشش های DLC و CrN روی رینگ های پیستون، چرخ دنده ها و پین های انژکتور برای کاهش ضریب اصطکاک.
تجهیزات پزشکی:پوشش های زیست سازگار TiN/TiCN روی ابزارهای جراحی و ایمپلنت ها.
گزینه های سفارشی سازی
ابعاد اتاق و چیدمان بندر:پورت های نظارت بر انتشار نوری و حجم مناسب (OEM).
ژنراتورها:مارکهای منبع تغذیه مشخص شده توسط مشتری یا پیکربندیهای بایاس پالس{1} تخصصی.
فیلتراسیون:میدانهای فرمان مغناطیسی و فیلترهای ذرات بزرگ برای پرداختهای اپتیکال/الکترونیکی صفر{0} قطره.
اتوماسیون:ادغام SCADA و اتصال پایگاه داده SQL برای ثبت داده های Industry 4.0.
کنترل کیفیت و تست پذیرش کارخانه
تست نشتی:آزمایش طیفسنج جرمی هلیوم بر روی تمام جوشها (<= 1.0 x 10^-9 Pa*m3/s).
ایمنی برق:مقاومت عایق، اتصال به زمین و تأیید قفل اینترلاک بر اساس استانداردهای CE/NFPA.
اجرای خشک عملکردی:تست چرخه مکانیکی و سوپاپ پیوسته 72 ساعته.
تأیید فرآیند:تست کوپن مرجع برای سختی نانو فرورفتگی و چسبندگی خراش.
نصب و پشتیبانی
پیش-نصب:طرحهای طرحبندی ابزار برای برق، آب، اگزوز و هوای فشرده ارائه شده است.
راه اندازی:راهاندازی و آزمایشی در سایت با نظارت مهندسان کارخانه انجام میشود.
آموزش:کارها، تعویض کاتد، و آموزش تعمیر و نگهداری معمول-.
مراقبت از چرخه زندگی:ایمن تشخیص از راه دور VPN و تامین قطعات یدکی محلی.
سوالات متداول
س: چگونه ذرات درشت (قطرات) در طی رسوب گذاری قوس کاتدی کنترل می شوند؟
A: کاهش متکی به جریانهای قوس بهینه، فرمان مغناطیسی با سرعت بالا، و فیلترهای ماکرو ذرات مغناطیسی اختیاری برای نیازهای سطح فوقالعاده-صاف است.
س: نرخ استفاده از هدف کاتد معمولی چقدر است؟
A: محدوده استفاده بین 55٪ و 70٪ بر اساس پروفایل های فرسایش کاتدی و تنظیمات میدان مغناطیسی است.
س: آیا سیستم میتواند رسوب گاز راکتیو را برای فیلمهای چند عنصری مانند TiAlN مدیریت کند؟
ج: بله. کنترلکنندههای جریان جرمی (MFC) از انتشار نوری یا بازخورد فشار جزئی برای تثبیت جریانهای راکتیو (N2، CH4) و حفظ ترکیب استوکیومتری استفاده میکنند.
س: نیازهای برق چیست؟
A: سیستم های استاندارد به برق 3 فاز (380V-480V، 50/60 هرتز) با ظرفیت بار کل بسته به مقدار کاتد از 60 کیلو ولت آمپر تا 150 کیلو ولت آمپر نیاز دارند.
تگ های محبوب: سیستم رسوب یونی چند قوس

