یون-تجهیزات لایه نازک به کمک تبخیر

سیستم صنعتی-گرید یون-سیستم تبخیر کمکی (IAE) که تبخیر چند{2}}الکترون جیبی- را با یک منبع پرتو یونی پرانرژی یکپارچه می‌کند (پیکربندی End{4}Hall یا Kaufman). بمباران یونی زمانی واقعی، حرکت جنبشی را به آداتوم های متراکم منتقل می کند، رشد دانه های ستونی را سرکوب می کند و تراکم بسته بندی لایه نازک- را به سمت مقادیر مواد حجیم هدایت می کند.

پیکربندی شده برای پردازش دسته‌ای در وسایل چرخش سیاره‌ای تحت اتوماسیون دوگانه-PLC. کاربردهای اصلی شامل پوشش‌های تداخل نوری با آستانه آسیب{4} بالا (LIDT)، پشته‌های فیلتر دی الکتریک متراکم، و روکش‌های محافظ بادوام است.

بمباران یونی پر انرژی:انتقال{0}زمان واقعی ریزحفره‌ها را از بین می‌برد و ضرایب انکسار را در برابر تغییرات طیفی ناشی از رطوبت تثبیت می‌کند.

خونریزی واکنشی گاز:تزریق فشار جزئی کنترل شده O2 یا N2 کمبود اکسیژن را در طول رسوب اکسید/نیترید جبران می کند و نوارهای جذب زیر{2} اکسید را حذف می کند.

دک منبع مدولار:کاست{0}}تعویض شبکه منبع یونی سبک و جیب‌های پرتو E قابل تعویض- زمان بازیابی محفظه را کاهش می‌دهد-به-زمان بازیابی خلاء را به کمتر از 2 ساعت.

یکپارچگی خلاء:فلنج های ISO/CF مهر و موم شده فلزی-و{1}}ویتون- مهر و موم شده همراه با دریچه های دروازه پنوماتیک از آلودگی متقاطع-در دسته ها جلوگیری می کند.

بسته خشن:دمنده ریشه با پشتوانه پره دوار یا پمپ های مکانیکی اسکرول هرمتیک رایگان-روغنی.

پمپ خلاء بالا-:Cryogenic pump (cryopump) or magnetically levitated turbomolecular pump (air throughput >= 2200 L/s).

اندازه گیری فشار:ترکیبی از گیج‌های یونیزاسیون پیرانی و{0}}کاتد داغ برای ثبت پیوسته از اتمسفر تا خلاء بالا.

تنظیم فشار فرآیند:مانومتر ظرفیت حلقه -بسته، دریچه گاز پروانه ای خودکار را در حین تزریق گاز هدایت می کند.

مواد تبخیر:
اکسیدها:SiO2، Ta2O5، TiO2، Nb2O5، HfO2
فلوراید:MgF2، LaF3
فلزات:طلا، Ag، Al، Cr، Ti

مواد بستر:
شیشه نوری (BK7، سیلیس ذوب شده، کوارتز)

ویفرهای نیمه هادی (سیلیکون، آرسنید گالیم)

کریستال ها (LiNbO3، یاقوت کبود، YAG)

هندسه فیکسچر:قفس‌های چرخش سیاره‌ای سفارشی، وسایل گنبدی، و{0}}صفحه‌دارهای مسطح که برای حجم‌های دسته‌ای خاص مهندسی شده‌اند.

فیلترهای تداخل لیزری:فیلترهای باریک و لبه‌ای که به نسبت خاموشی نیاز دارند با عمق مسدود کردن > OD6 در 1064 نانومتر.

پوشش‌های ضد انعکاسی (AR):پوشش‌های AR باند پهن چند لایه برای پنجره‌های لیزری با قدرت{{1} بالا و اپتیک دوربین.

آینه های سطح جلو:بازتابنده‌های فلزی با پراکندگی پایین-که با روکش‌های دی الکتریک سخت برای تجهیزات هوافضا و دفاع محافظت می‌شوند.

لایه های دی الکتریک نیمه هادی:رسوب لایه دی الکتریک غیرفعال کننده و عایق بر روی بسترهای حساس به دما{0}}.

اندازه اتاقک:قطر داخلی از 700 میلی متر تا 1300 میلی متر مقیاس بندی شده است.

یکپارچه سازی منبع:تنظیم‌های پرتو E دوگانه، منابع مقاومت حرارتی، یا پیکربندی‌های رسوب‌گذاری مشترک.

سطح اتوماسیون:بارگیری دستی نیمه خودکار یا جابجایی بستر رباتیک کاملاً یکپارچه با قفل-.

رعایت:تابلوهای برق CE، UL/CSA و بسته‌های انطباق ایمنی SEMI S2/S8.

تشخیص نشت:تست نشت هلیوم طیف‌سنج جرمی همه محفظه‌ها و آب‌بندی‌ها تا کمتر از 1*10^-10 Pa*m^3/s.

بازرسی ابعادی:تأیید CMM فلنج های نصب داخلی و پروفیلومتری نوری که زبری دیوار محفظه را تأیید می کند (Ra<= 0.4 um).

رایت-در آزمایش:تست اجرای 72-ساعت خشک مداوم- پمپ‌های خلاء، منابع تغذیه ولتاژ بالا و حلقه‌های اینترلاک PLC.

تست پذیرش فرآیند (FAT):پوشش مرجع برای تأیید پایداری نرخ رسوب و اهداف ضریب شکست در برابر معیارهای از قبل توافق شده{0}} اجرا می شود.

راهنمای نصب قبل از-نقشه های چیدمان که آب سرد، تهویه خروجی، بارهای الکتریکی و ظرفیت وزن کف را پوشش می دهد.

در{0}}راه اندازی سایت:اجرای مهندسی میدانی تراز مکانیکی، بررسی نشت، اتصالات ابزار و آزمایش SAT مشترک.

آموزش فرآیندی:آموزش اپراتور و تعمیر و نگهداری شامل برنامه نویسی دستور العمل، سرویس منبع یون و بازسازی پمپ.

پشتیبانی چرخه حیات:یکپارچه سازی رابط تشخیصی از راه دور و مدیریت موجودی قطعات یدکی محلی.