سیستم پوشش صنعتی{0}}خلاء درجه یکپارچه کندوپاش مگنترون (RF/DC/HiPIMS) و تبخیر قوس کاتدی. برای رسوب لایه نازک-مستمر، چند لایه، آلیاژی و نانو-در مقیاس تولید طراحی شده است.
مشخصات فنی
|
پارامتر |
مقدار مشخصات |
|
فشار خلاء نهایی |
<= 5.0 x 10^-4 Pa (Turbo-molecular and roots-rotary pump configuration) |
|
ابعاد اتاقک |
اندازه سفارشی از D 600 mm x 600 mm تا D 1500 mm x 1500 mm (304/316L الکترو-فولاد ضد زنگ صیقلی) |
|
منابع رسوبی |
قابل تنظیم: 2-6 کاتد کندوپاش مگنترون / 2-4 منبع قوس |
|
قدرت سوگیری بستر |
0 تا -1000 VDC قابل تنظیم (DC پالسی برای بسترهای دی الکتریک) |
|
یکنواختی ضخامت فیلم |
<= +/- 3% across standard planar holder (via dynamic planetary rotation) |
|
دمای بستر |
محیط تا 650 درجه (+/- 2 درجه PID بسته-کنترل حلقه) |
|
توزیع برق |
RF (13.56 مگاهرتز)، DC، DC پالسی، و فرکانس متوسط- (MF) با سرکوب قوس |
ویژگی های کلیدی
یکپارچه{0}فناوری دوگانه:کندوپاش (لایه های ترکیبی صاف و بی شکل) و قوس کاتدی (رسوب فلز/آلیاژ با یونیزاسیون بالا) را در یک چرخه پایین پمپ- ترکیب می کند.
-مدیریت گاز حلقه بسته:کنترلکنندههای جریان جرمی (MFC) همراه با نظارت بر انتشار نوری (OEM) فشار جزئی گاز راکتیو را تثبیت میکنند.
جداسازی مکانیکی:درایوهای سیاره ای چند محوری یاتاقان های مکانیکی را از منطقه فرآیند جدا می کند و از آلودگی ذرات جلوگیری می کند.
معماری حرارتی:دیوارهای محفظه خنکشده-دو جداره با آب-و محافظ تشعشع از اعوجاج حرارتی در حین کار{2}}با قدرت بالا جلوگیری میکند.
هسته اتوماسیون:Siemens S7-1500 PLC و معماری WinCC SCADA برای نظارت در زمان واقعی اینترلاک، گاز و قدرت.
پیکربندی سیستم خلاء
قطار خشن:پمپهای پرهای دوار مستقیم-که توسط دمندههای Roots با آببندهای سیال مغناطیسی پشتیبانی میشوند.
خلاء بالا:پمپهای مولکولی توربو-({1}} L/s) یا پمپهای برودتی معلق مغناطیسی.
تشخیص:پورتهای آزمایش طیفسنج جرمی هلیوم و اینترلاکهای توالییابی خودکار.
سازگاری مواد و بستر
مواد هدف:
فلزات:Ti، Cr، Al، Zr، Cu، TiAl، CrAl، Si
سرامیک/ترکیبات:TiN، CrN، TiAlN، DLC، Al2O3، SiO2
بسترها:فولادهای ابزار (H13، M2، درج های کاربید)، آلیاژهای ساختاری تیتانیوم/آلومینیوم، سرامیک های مهندسی و ویفرهای سیلیکونی.
برنامه های کاربردی و عملکرد اثبات شده
ابزار برش:پوششهای چند لایه-کم-سختی- (TiAlN/TiN) برای طولانیتر شدن عمر ابزار تحت ماشینکاری با سرعت بالا-خشک.
خودرو:پوششهای سایش و ضد خراش رینگهای پیستون و پینهای تزریق سوخت-.
هوافضا:لایههای محافظ حرارتی-مقاوم در برابر اکسیداسیون و تیغههای کمپرسور و اتصال دهندهها.
اپتیک و الکترونیک:اکسیدهای شفاف رسانا (ITO) و فیلترهای تداخل نوری.
گزینه های سفارشی سازی
هندسه محفظه ای:پیکربندیهای جعبه مستطیلی برای بارگیری دستهای یا هندسههای خطی استوانهای.
مقاوم سازی منبع:فلنج های نصب کاتدی قابل تعویض برای تبدیل میدان به CFUBMS.
اچ پلاسما:تفنگهای یونی یا منابع کاتدی توخالی کافمن-برای تمیز کردن بستر در محل.
کنترل کیفیت و تست کارخانه
یکپارچگی خلاء:آستانه تست نشت هلیوم<= 1 x 10^-9 Pa*m^3/s.
پایان سطح:الکترو جوش های داخلی محفظه ای-به Ra پرداخت شده است<= 0.4 um.
چربی:72-ساعت آزمایش خشک مداوم حلقههای خلاء، حرکت و قفل ایمنی قبل از جعبهبندی.
استانداردهای انطباق:بر اساس دستورالعمل های ماشین آلات CE و استانداردهای ISO 9001 ساخته شده است. (نمادهای نشان اعتماد: ISO 9001، CE، UL)
نصب و پشتیبانی فنی
بسته مستندات:شماتیک های P&ID، نمودارهای سیم کشی الکتریکی، منطق منبع PLC، و پرونده های انطباق با CE/UL.
راه اندازی:مهندسان میدانی بر موقعیت مکانیکی، اتصالات ابزار و تأیید بررسی نشت نظارت دارند.
SAT & Recipe Handover:در{0}}آزمایش پایه سایت و بهینهسازی دستور پخت.
سوالات متداول
س: زمان کاهش{0}پمپ تا فشار پایه چقدر است؟
A: در 45 دقیقه در شرایط حرارتی تمیز، خشک و محیطی به < 5.0 x 10^-4 Pa می رسد.
س: آیا سیستم میتواند در اواسط فرآیند- بین DC و RF جابجا شود؟
ج: بله. ماتریس توان به نرمافزار اجازه میدهد-توالی بین DC، DC پالسی و RF را بدون شکستن خلاء کنترل کند.
س: چه ابزارهای کمکی در-سایت مورد نیاز است؟
A: آب سرد (15 تا 20 درجه در 0.3 تا 0.4 مگاپاسکال)، هوای فشرده (0.6 مگاپاسکال)، گازهای فرآیندی با خلوص بالا (Ar، N2، O2 در 99.999٪)، و توان صنعتی 3 فاز اختصاصی.
س: دمای بستر در طول رسوب چگونه تنظیم می شود؟
پاسخ: پیرومترهای مادون قرمز یکپارچه همراه با بانکهای گرمکن تابشی و کنترل حلقه بسته-PID.
تگ های محبوب: سیستم لایه نازک کامپوزیت pvd، تولید کنندگان سیستم لایه نازک کامپوزیت pvd چین، تامین کنندگان، کارخانه
